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x-射線電子能譜檢測報告如何辦理？檢測項目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x-射線電子能譜檢測相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測試和評估。做檢測，找百檢。我們只做真實檢測。
涉及x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)有53條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x-射線電子能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、光學(xué)設(shè)備、無損檢測、光學(xué)和光學(xué)測量、計量學(xué)和測量綜合、電子元器件綜合。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x-射線電子能譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、、光學(xué)測試儀器、顏料、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理。
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強(qiáng)度的方法和報告結(jié)果所需的信息
GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
GB/T 17359-1998電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ISO 17109-2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測定濺射速率的方法
ISO 20903-2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報告結(jié)果時所需的信息
ISO 18554:2016表面化學(xué)分析.電子光譜法.用X射線光電子能譜法分析的材料中X射線非預(yù)期降解的評定和校正程序
ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求
ISO 19830:2015表面化學(xué)分析 - 電子光譜 - X射線光電子能譜峰值擬合的*低報告要求
ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
ISO 17109:2015表面化學(xué)分析 - 深度分析 - X射線光電子能譜法中的濺射速率測定方法 俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜法使用單層和多層薄膜的濺射深度分析
ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.均勻材料定量分析用實驗測定相對靈敏度因子的使用指南
ISO 20903:2011表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——報告結(jié)果時用于確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法
ISO 18516:2006表面化學(xué)分析——俄歇電子能譜和X射線光電子能譜——橫向分辨率的測定
ISO 20903:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.報告結(jié)果時確定峰值強(qiáng)度和所需信息的方法
ISO/TR 19319-2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.用分析儀觀察橫向分辨率 分析面積和樣品面積的測定
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E995-11俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E995-2011在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-10俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
ASTM E996-2010俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-04俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
ASTM E995-04俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-2004俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
ASTM E995-97俄歇電子和X射線光電子能譜中背景差減技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
ASTM E996-1994(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
BS ISO 18554-2016表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
BS ISO 19830-2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報告要求
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 17109-2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報告結(jié)果要求的信息
BS ISO 20903-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測定峰強(qiáng)度的方法和報告結(jié)果要求的信息
廣東省質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB44/T 1215-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征單壁碳納米管的特性
DB44/T 1216-2013利用掃描電子顯微術(shù)和X射線能譜法表征石墨烯的特性
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
JIS K0167-2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
NF X21-058-2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強(qiáng)度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息
，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實驗測定的相對靈敏度因子的使用指南
KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
韓國標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
KS D ISO 19319-2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
DB35/T 110-2000油漆物證檢測電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于x-射線電子能譜的標(biāo)準(zhǔn)
AS ISO 18118-2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實驗測定的相對靈敏系數(shù)使用指南
AS ISO 19319-2006表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
檢測報告有效期
一般x-射線電子能譜檢測報告上會標(biāo)注實驗室收到樣品的時間、出具報告的時間，不會標(biāo)注有效期。
檢測費用價格
需要根據(jù)檢測項目、樣品數(shù)量及檢測標(biāo)準(zhǔn)而定，請聯(lián)系我們確定后報價。
檢測流程步驟
溫馨提示：以上內(nèi)容為部分列舉，僅供參考使用。更多檢測問題請咨詢客服。
